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最終更新日:2026-02-25

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タイトル Is It Time to Reconsider Chronic Electromagnetic Field Exposure as a Possible Risk Factor in Oral Cancer?
日本語タイトル 口腔がんの可能性のあるリスク因子として慢性的な電磁界ばく露を再考すべき時期か?
著者 Nithya K, Hema Shree K
所属 Department of Oral Biology, Saveetha Dental College and Hopsitals, Saveetha Institute of Medical and Technical Sciences, Saveetha University 資料区分 論文
雑誌名 J Stomatol Oral Maxillofac Surg 文献区分 総説
発表年 2026 周波数区分 高周波(300kHz-30GHz)
巻/ISSN(号):ページ 127 (3): 102703 研究区分 動物研究
India PubMed ID 41478346
論文情報入手日 2026-01-01 DOI 10.1016/j.jormas.2025.102703
キーワード Cell phone; Electromagnetic fields; Mouth neoplasms.
概要 この論文の著者らは、長期かつ局所的な電磁界ばく露が、口腔上皮組織におけるDNA損傷、酸化ストレス、およびエピジェネティックな修飾に寄与する可能性があるという生物学的妥当性を強調している。パイロット細胞遺伝学研究、イン・ビトロモデル、および限られた疫学データから得られたエビデンスでは、携帯電話の長期使用者の頬粘膜細胞において、小核頻度の増加と細胞ストレス応答の変化が観察されている。口腔扁平上皮がん(OSCC)における直接的な因果関係を示すデータは未だ存在しないものの、これらの知見は、電磁界が単独で、あるいは既存の発がん物質と相乗的に作用する可能性があることを示唆している。この著者らは、慢性的な電磁界ばく露が口腔がんの発生に寄与するかどうかを評価するためのイン・ビトロ、イン・ビボ、および疫学研究の緊急の必要性を強調している。この仮説を認識することは、警鐘を鳴らすものではなく、厳密かつ偏りのない調査を求めるものである。もし検証されれば、こうした証拠は、新たなばく露に関する予防的(preventive)ガイドラインや公衆衛生政策の策定に役立つ可能性がある、と著者らは主張している。