| タイトル |
EMF Exposure of Workers Due to 5G Private Networks in Smart Industries
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| 日本語タイトル |
スマート産業における5Gプライベートネットワークによる労働者の電磁界ばく露
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| 著者 |
Gajsek P, Apostolidis C, Plets D, Samaras T, Valic B
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| 所属 |
Institute of Non-Ionizing Radiation (INIS)
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資料区分 |
論文
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| 雑誌名 |
Electronics
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文献区分 |
原著論文・短報
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| 発表年 |
2025
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周波数区分 |
高周波(300kHz-30GHz)
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| 巻/ISSN(号):ページ |
14 (13): 2662
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研究区分 |
ドシメトリ
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| 国 |
Slovenia
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PubMed ID |
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| 論文情報入手日 |
2025-07-16
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DOI |
10.3390/electronics14132662
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| キーワード |
RF EMF exposure; private 5G networks; occupational exposure
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| 概要 |
この研究は、5Gプライベートモバイルネットワークから放出される行為周波（RF）電磁界への職業ばく露に関する知見を得るため、生産および物流（倉庫）産業分野の実際のシナリオで、さまざまな種類の5G機器によるRFの分析を実施した。実際の産業環境において3.7 GHzで稼働するプライベートスタンドアロン（SA）5Gネットワークを数値モデル化し、実地でのRF電磁界測定値と比較した。その結果、プライベートネットワーク内の屋内5G基地局の電力は比較的低い（1W）ため、労働者のRFばく露は既存のばく露限度をはるかに下回っており、他の導入済み5Gネットワークでも同様のばく露シナリオが予想されることが示された。解析されたRFばく露シナリオでは、ワイヤレス送信機の設置高さが比較的低く、得られた結果はスマートインダストリーにおけるプライベート5Gネットワークで予想される労働者のばく露の最悪のシナリオを表している、と著者らは報告している。
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